第315章：光刻与蚀刻，芯片制造的魂与魄（干货，求票）(2/6)

    叶华指挥着五个协助他的工程师进行最后的调试作业，一名工作人员把他带来的密封箱取来从中取出锡烯二维晶圆，这是制作好的锡圆片。

    芯片的制造工艺流程是非常复杂的，首先是先丰纳米公司提供了高纯度的锡烯二维晶体薄膜，在吸收了信越化工在原材料工艺制作的核心技术后，先丰纳米把锡烯材料的纯度也提高到了全世界最顶尖的层面。

    值得一提的是，制作芯片除了需要光刻机之外，还需要蚀刻机，如果说光刻机是芯片制造的魂，那么蚀刻机就是芯片制造的魄，想要制造出真正的高端工艺芯片，这两样都必须是顶尖的。

    而在此之前，国产光刻机和蚀刻机的发展非常尴尬，属于严重偏科的情况，中微半导体已经可以进行5纳米级别的蚀刻机量产，直接无悬念的迈入世界一流行列，量子蚀刻机也在试验阶段了，这可是没有叶华帮助的结果。

    但是光刻机企业不管是商都的微电子的90纳米级光刻机，还是影速的200纳米级光刻机，与当前世界asml最先进的5纳米级制程都是难以望其项背的差距。

    这俩机器设备，简单的说就是光刻机把电路图投影到覆盖有光刻胶的硅片上，当然现在是锡片，而蚀刻机再把画