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第316章:复杂的芯片工艺制程(干货)(2/6)

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主导了另一种cpu的ic设计,那就是华为手机的cpu。

    没错,将来的华为手机芯片也会逐渐实现完全国产化,并且不再使用硅片,而是锡片了。

    在ic设计生产流程中,由各大ic设计大厂进行规划,当下的国际代表就是高通、英特尔这些全球知名的大厂了,都执行设计各自的ic芯片,提供不同规格、效能的芯片给下游厂商选择。

    仅一款芯片的ic设计流程就包括了硬件描述语言(hdl)的设计、芯片设计的debug、芯片设计的分析、fpga验证等等。

    ic设计之后便是芯片的制造,根据ic设计的需求,生成的芯片方案设计,接下来就是打样了。

    由先丰纳米提供芯片原料晶圆,这次叶华他们制程的芯片样品成分不再是传统的硅,而是锡烯材料替代了,纯化是99小数点后面9个9的极致程度。

    锡烯材料越薄,成本越低,但对工艺要求也是成正比的,信越化工的纯化技术还是很给力的。

    下一步就是晶圆涂膜,由一种能抵抗氧化及耐温能力的材料,是光阻的一种。

    再下一步就是现在的实验室里叶华正在主导进行的制程工艺:光刻显影、蚀刻。

    


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